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Leica EM ACE200 低真空镀膜仪

Leica EM ACE200 低真空镀膜仪

简要描述:
Leica EM ACE200是一款低真空镀膜仪,可以选择离子溅射镀金属膜或者碳丝蒸发镀碳膜功能,或者同时具有这两种功能。能够满足日常SEM需求,也可用于X-射线能谱及波谱分析,或者TEM铜网镀碳膜。全自动电脑控制,自动完成抽真空,镀膜,放气等全过程,一键操作。采用当下非常流行的触摸屏控制,简单方便。

更新时间:2021-12-01

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     Leica EM ACE200 低真空镀膜仪

<strong><strong><strong>Leica EM ACE200 低真空镀膜仪</strong></strong></strong>


 Leica EM ACE200是一款低真空镀膜仪,可以选择离子溅射镀金属膜或者碳丝蒸发镀碳膜功能,或者同时具有这两种功能。能够满足日常SEM需求,也可用于X-射线能谱及波谱分析,或者TEM铜网镀碳膜。全自动电脑控制,自动完成抽真空,镀膜,放气等全过程,一键操作。采用当下非常流行的触摸屏控制,简单方便。

特点

  • 可任选离子溅射模式、碳丝蒸发镀碳模式,或者双模式,可选辉光放电(用于网格表面亲水化)

  • 脉冲式碳丝蒸发方式,可精确控制碳膜厚度

  • 可选石英膜厚检测器,精确控制镀膜厚度,精度达0.1nm

  • 全自动程序控制,自动完成抽真空,镀膜,放气等过程

  • 触摸屏控制,简单方便

  • 真空度≤7×10 -3 mbar

  • 溅射电流:0-150mA可调

  • 方形样品仓,样品仓尺寸:140mm(宽)×145mm(深)×150mm(高)

  • 工作距离调节范围:30mm-100mm


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